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紫外臭氧清洗機,半導體材料UV清洗機,單晶基片清洗設備

簡要描述：臭氧紫外清洗機?的原理主要是利用紫外光和臭氧的相互作用來去除材料表面的有機污染物。 紫外光清洗技術通過發射波長為185nm和254nm的光波，這些光波具有很高的能量。當這些光子作用到被清洗物體表面時，它們會使被清洗物體表面的有機物質發生光敏氧化作用，分解成離...

  • 更新時間：2024-12-23 08:36:35
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